半導体ロードマップについて (その１)

半導体技術では様々なロードマップが作成されており、将来人々が必要とするだろう高度なシステムを実現するための半導体関係の上位技術仕様、それを実現するための下位技術仕様、それらの技術仕様を実現する上での困難なチャレンジ、課題解決の候補技術、等々が記述されている。

それらのロードマップは、半導体デバイスメーカのみならず半導体製造装置メーカー、装置の部品メーカー、各種材料メーカー、設備メーカー、様々な研究機関の研究者、等々で共有されており、ある程度ベクトルのそろった研究開発が各機関で進められることにより、半導体の急激な発展が長い間支えられてきたといっても過言ではないだろう。

現在活動が継続しているロードマップには、

IRDS (International Roadmap for Devices and Systems, https://irds.ieee.org/),

iNEMI Roadmap (International Electronics Manufacturing Initiative Roadmap, https://community.inemi.org/inemi-roadmap),

NEREID (NanoElectrinics Roadmap for Europe, http://www.sinano.eu/uncategorized/release-of-the-nereid-final-roadmap/),

実装技術ロードマップ (https://www.jeita.or.jp/cgi-bin/public/detail.cgi?id=740&cateid=1) 等がある。

また、過去には日本半導体製造装置協会(SEAJ)が半導体製造装置技術ロードマップ報告書(https://www.seaj.or.jp/activity/tech/roadmap/)を作成していた。

ここでは、その前身の活動が1990年代初頭に始まったIRDSについて紹介していく。

[ご質問・コメントは分析工房(株)・国井 (kunii@bunsekik.com) までお願いいたします。]

[図・写真は、本文の内容をイメージするインターネット上のフリー画像、および、それを加工したものであり、各ロードマップとは直接関係ありません。]